设备原理：

利用扫描隧穿原理或者探针尖端与样品之间的作用力，在原子尺度探测样品表面的结构和电子态密度。

关键性能参数：

1. 图像分辨率：z方向0.01nm，XY方向0.1nm

2.  本底真空：制备室<8.0X10E-10 mBar，STM扫描室<2.0x10E-10 mBar

应用范围：

高质量原子分辨图像，观察样品表面形貌特征

配备氩离子枪和蒸发源，可制备各类样品并原位表征

基于qPlus传感器的nc-AFM扫描模式可以获得有机分子的原子分辨成像，可以在原子尺度表征绝缘体材料表面

设备特色：

支持qPlus nc-AFM

原位样品处理（加热、氩离子轰击）

配备主动式减震平台，系统噪音低

应用领域：

表面在位化学、纳米材料、拓扑绝缘体、半导体、化合物半导体、二维材料和其他先进材料等