仪器生产商： ----
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主要参数： ----
仪器介绍：
一、用途
典型应用：wafer有机清洗、显影等。
二、原理：有机化液可以溶解光刻胶等有机物，达到清洁wafer或剥离作用。备注：1.周一至周五清洗间开放时间08:30--17:30 ,节假日期间禁止使用 2.用户使用需通过加工平台综合培训并提供邮件证明，再通过部门超净间安全考试方可进行实验；3.提供四甲基氢氧化铵（TMAH）显影液，其他特殊显影液请用户自备； 4.所有用户清洗结束后需要做到：器皿归位、关闭设备电源、拔线、关灯、关门做好5S整理，违反者将按照部门规定予以罚款、禁止进入超净间等处罚；5.超净间属于有机清洗严禁无机试剂进入。
三、主要技术指标
1.超净间有机清洗工艺种类：清洗去胶工艺、显影； 2.有机类化药：丙酮、异丙醇、乙醇、四甲基氢氧化铵（TMAH）显影液等； 3.提供设备：匀胶机、热板加热设备、超声波清洗设备、滴管、烧杯等。
1. 免费：乙醇、异丙醇、丙酮、双氧水、NaOH、KOH、超声清洗机、水、N2；
2. 收费：其他化药单独按量收费，计入耗材费；
3. 用户若自带化药需提前联系管理员，确认是否在准入清单。
4. 委托费用：200元/小时。
5.进入超净间非财政收入来源70元/小时，财政收入来源60元/小时
主要仪器管理员： 项超(电话:18761812432)
工作时间： 09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段： 0.5 小时
最大可预约时间段： 168 小时
日历最小单位： 0.5 小时
最近提前预约时间： 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间： 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间： 15 分钟
失约保护时间： 15 分钟
断电延时时间： 30 秒
最短重上电时间： 5 秒
使用超时提醒： 120 秒
最大有效预约次数： 5 次/天
无代价撤销预约时间： 1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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