1. 光发射电子显微镜（PEEM）

仪器生产商： XXX

资产编号： SN201904074

资产负责人： ----

购买经办人： ----

主要配件： ----

主要参数： Pressure : 2E-10~ 1E-4 mbar Heating temperature : 298 ~ 1800 K Spatial resolution : PEEM 10 nm, LEEM 5 nm Time resolution : ms Energy resolution : < 180 meV

仪器介绍：

一、设备型号，关键性能参数
设备型号：SPECS PEEM P90
关键性能参数：

工作压力： 2×10-10 - 1×10^-4 mbar
加热温度：298 - 1800 K
空间分辨率：PEEM 10 nm, LEEM 5 nm
时间分辨率：ms
能量分辨率：< 180 eV

二、设备原理
光发射电子显微镜(Photoemission Electron Microscopy, PEEM)是利用光电效应原理，以紫外光或X射线光来激发固体表面原子中的电子，采用先进的电子光学系统对表面光电子进行聚焦、放大，实现固体表面成像研究的新技术。PEEM的成像过程与透射电子显微镜（TEM）技术相似，利用了平行电子束成像而无需表面扫描过程，可以实现快速成像。另一方面，PEEM与X-射线光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱（UPS）等技术均利用了表面光电效应原理，其成像与表面电子结构和表面化学等性质密切相关。因此PEEM研究不仅获得固体表面结构和形貌的信息，同时也反映了固体表面化学性质的变化。低能电子显微镜(Low Energy Electron Microscopy, LEEM)，与PEEM共用一条成像系统，只是激发源采用的是低能电子，当低能电子与样品表面接触时，在样品表面会发生弹性背散射和非弹性背散射，LEEM主要利用弹性背散射电子来进行成像，由于入射电子能量低，不仅探测深度非常浅(通常只有几个原子层到十几个原子层厚)，具有超高的表面敏感度，而且对于表面电子结构和几何结构的变化也非常敏感，可以直接获得微区结构和形貌变化的信息。PEEM/LEEM系统是一种实时、动态、对表面结构和表面化学进行原位研究的技术。
三、应用范围

固体表面原位动态成像
固体表面功函数、几何结构、电子结构变化的原位分析

四、设备特色

LEEM电子源采用场发射电子枪，与传统的LaB6灯丝电子枪相比，电子束更聚焦，图像衬度更清晰
LEEM模式中的还包含选区低能电子衍射(μ-LEED)功能，最小可选择直径为185 nm的区域
实现高温原位成像，最高温度可达1800 K

五、应用领域
催化、能源、纳米科学、生物、微电子、材料等领域

用户资格	工作时间	非工作时间
未授权资格	需审核	需审核
普通资格	免审核	需审核
资深资格	免审核	免审核

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