仪器生产商: ----
资产编号: SN202205004
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购买经办人: ----
主要配件: ----
主要参数: ----
仪器介绍:
关键性能参数
电源:2个(1DC+1RF)
靶位:5支(1强磁+4标准)
进气:N2、Ar、O2
基片温度:室温至800℃
设备极限真空:<5×10-8 Pa,常驻本底真空<1×10-7 Pa
薄膜不均匀性<±5%
应用范围
Al、Ti、Ni、Ta、Nb、Cu、TiN等
设备特色
进样室可存放3个2寸样品
可加衬底射频偏压,完成清洗或偏压生长
设备原理
一种较为常用的物理气相沉积镀膜法,在真空室中,利用低压气体放电现象,使处于等离子状态下的离子轰击靶表面,并利用环状磁场控制辉光放电,使溅射出的粒子沉积在基片上,从而得到均匀优质的薄膜
应用领域
适用于绝大部分器件工艺、表面装饰等领域
在高温超导薄膜、太阳能电池、记忆合金等薄膜研究方面起到重要作用
快速沉积优质超硬膜,增透膜,表面功能膜等适应科技领域前沿方向
主要仪器管理员: 王虎(电话:18896719689)
工作时间: 08:30-12:00;13:30-17:30
最小可预约时间段: 2 小时
最大可预约时间段: 168 小时
日历最小单位: 0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 24小时; 普通资格用户: 24小时; 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间: 15 分钟
失约保护时间: 15 分钟
断电延时时间: 30 秒
最短重上电时间: 5 秒
使用超时提醒: 120 秒
最大有效预约次数: 5 次/天
无代价撤销预约时间: 1440 分钟
用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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未授权资格 | ||
普通资格 | ||
资深资格 |
序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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