仪器生产商： ----
资产编号： SN202311042
资产负责人： ----
购买经办人： ----
主要配件： ----
主要参数： ----
仪器介绍：
一、设备型号、关键性能参数
型号：Microwriter ML3
关键性能参数：
加工尺寸：8寸以下兼容
曝光光源：385nm
直写分辨率：0.4um，0.6μm，1μm，2μm，5μm
对准显微镜镜头：x3，x5，x10，x20，x50 自动切换
最快直写速度：
4mm2/min @ 0.4μm
17mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
最小线宽尺寸：0.4μm
多层套刻精度：±0.5μm
最小栅格精度：100nm
样品台最小位移步长：50nm
二、设备原理：
Microwriter是通过电脑控制数字微镜阵列（DMD）像素的开和关以控制光路，将设计版图映射到晶片表面的光刻胶上，每次曝光一个写场中的图形，接着曝光下一个写场的图形，直至将整个晶片完全曝光。样品台（放置样品）被平面内XY两轴向的精密位移电机控制，能实现写场间的高精度拼接。该光刻设备无需加工物理掩膜版，设计好的电子版图文件导入控制电脑，经过软件处理和曝光参数设定进行全自动图形曝光。
三、应用范围：
亚微米级图形结构制备
二维材料电极图形制备
无固定掩模光刻加工
三维结构图形制备
四、设备特色：
灰度直写：255级；
温度补偿功能：调节系统激光干涉仪校正参数，补偿温度偏差；
虚拟掩模板对准：曝光前调用虚拟掩模板，辅助套刻对准；
气动减震光学平台
自动晶圆检查工具：可自动识别晶圆中心
五、应用领域：
MEMS、半导体、光学领域等
主要仪器管理员： 王虎(电话:18896719689)
仪器管理员： 袁敏(电话:18840925012)
工作时间： 09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段： 1 小时
最大可预约时间段： 168 小时
日历最小单位： 0.5 小时
最近提前预约时间： 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间： 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
最大有效预约次数： 5 次/天
无代价撤销预约时间： 1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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