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金属有机物化学气相沉积设备

仪器分类：材料生长平台

仪器状态：

所属单位：所内 > 纳米真空互联实验平台

仪器生产商： ----

购置日期： 0000-00-00

使用模式：项目委托,按时预约

规格型号： AIXTRON Close Coupled Showerhead 6x2 inch

放置房间号： ----

仪器生产商： ----

资产编号： ----

资产负责人： ----

购买经办人： ----

主要配件： ----

主要参数： ----

仪器介绍：

金属有机物化学气相沉积（MOCVD）设备

设备型号：AIXTRON Close Coupled Showerhead 6x2 inch

关键性能参数：

1) 工作压力：0-1300 mbar

2) 工作温度：0-1300 ℃

3) 生长速率：0.01~1 nm/s

设备特色：

4) 高生长速率、高掺杂均匀性和重复性

5) 高的产能，成本相对较低

6) 高灵活性---同一机台可以生长不同的材料

7) 异质界面陡峭，适合生长超晶格和量子阱结构等

应用领域：

半导体、化合物半导体、无机非金属材料等领域

使用指南 more>>

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