仪器生产商： ----
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主要参数： ----
仪器介绍：
关键参数：
Ø 整体参数
· 真空互联：4个超高真空腔室，各配独立快速进样室；样品传递腔本底真空2×10-7 Torr
· 供配电：总功率5 kW，三相380 V＋单相220 V；3套双柜控制器，独立冷却水
Ø 腔室一·预处理腔
· 本底真空：3.5×10-8 Torr
· 预处理方式：等离子清洗／微波清洗
Ø 腔室二·沉积腔
· 本底真空5×10-9 Torr，工作真空3.5×10-4 Torr
· 靶位与电源：6个2英寸磁控管＋6个射频源
· 膜厚控制：0.03 Å
Ø 腔室三·沉积腔（氧化物）
· 本底真空4.5×10-8 Torr，工作真空3×10-3 Torr
· 靶位与电源：1个2英寸磁控管，直流/射频共用
· 膜厚控制：0.03 Å；可沉积氧化物薄膜
Ø 腔室四·高温沉积腔
· 本底真空3×10-9 Torr，工作真空3.5×10-4 Torr
· 靶位与电源：3个2英寸磁控管＋3个射频源；衬底加热至1100 ℃，样品台可倾斜
· 膜厚控制：0.03 Å
Ø 应用范围
4英寸及以下衬底的高质量磁性材料与半导体薄膜沉积研发；高端芯片、集成电路、石墨烯及锂电池材料的研发。
Ø 设备特色
四腔真空互联，各腔独立快速进样，样品全程不暴露大气；单腔独立工艺控制，实验重复性高；膜厚控制精度0.03 Å；磁控靶位按6/1/3分布，直流与射频兼容，支持单靶及多靶共溅射；衬底最高温度1100 ℃，样品台可倾斜。
Ø 应用领域
磁性材料与自旋电子学薄膜、半导体与集成电路工艺、石墨烯等二维材料、锂电池材料。
主要仪器管理员： 郭天泓(电话:18059329962)
工作时间： 09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段： 0.5 小时
最大可预约时间段： 168 小时
日历最小单位： 0.5 小时
最近提前预约时间： 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间： 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间： 15 分钟
失约保护时间： 15 分钟
断电延时时间： 30 秒
最短重上电时间： 5 秒
使用超时提醒： 120 秒
最大有效预约次数： 5 次/天
无代价撤销预约时间： 1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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