仪器生产商： XXX
资产编号： SN201812109
资产负责人： ----
购买经办人： ----
主要配件： ----
主要参数： ----
仪器介绍：
一、设备型号、关键性能参数
型号：metal-MBE
关键性能参数：
功能：金属薄膜的制备和基于金属材料的图案转移；
工作压力：UHV（5.6×10-11mbar）；
样品尺寸: 2英寸并向下兼容小样品；
衬底加热温度：800℃；
配备Al蒸发源 （双温区，能防止Al材料从坩埚口溢出），束源炉的最大加热温度是1400℃（此时材料的最大沉积速率为3A/s）；
配备金蒸发束源炉，最大加热温度是1250℃（此时材料的蒸发速率是0.6A/s）；
配备镍蒸发束源炉，最大加热温度是1350℃（此时材料的蒸发速率是0.4A/s）。
二、设备原理
金属分子束外延系统（metal MBE），在超高真空环境利用热蒸发原理沉积金属薄膜（目前可生长Al、Au、Ni等），可借助mask进行图形转移，在低维金属材料及器件制作方向具有广泛应用前景。
三、、应用范围
高质量金属薄膜的成分可控、膜厚可控生长；
高质量Al膜生长；
样品尺寸2英寸，满足一般器件加工要求；
可进行图形转移，应用于欧姆接触等领域；
金属分子束外延系统除满足常规金属材料生长（Au、Ni、Cu等），还配备Al蒸发源，同时可以利用mask可直接在不同的衬底上制备金属图形。可应用于半导体激光器欧姆接触等前沿研究领域。
四、设备特色
可进行图形转移；
30 KeV 反射式高能电子衍射仪，能实时检测薄膜的生长；
极限真空能达到5.3*10-11mbar，工作真空一般能达到~2*10-10mbar；
为了满足大尺寸样品的生长，坩埚的容量比较大，Al蒸发源容量为25cc，Au源容量为10cc，Ni源容量为30cc（还有3个备用束源炉法兰接口）。
主要仪器管理员： 刘宏伟(电话:15105601796)
仪器管理员： 袁敏(电话:18840925012)
工作时间： 08:30-12:00;13:30-17:30
最小可预约时间段： 4 小时
最大可预约时间段： 168 小时
日历最小单位： 1 小时
最近提前预约时间： 未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时
最远提前预约时间： 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间： 15 分钟
失约保护时间： 15 分钟
断电延时时间： 30 秒
最短重上电时间： 5 秒
使用超时提醒： 120 秒
最大有效预约次数： 5 次/天
无代价撤销预约时间： 1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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